ترجمه مقاله Investigation of the cutoff frequency of double linear halo lightly doped drain and source CNTFET

ترجمه مقاله Investigation of the cutoff frequency of double linear halo lightly doped drain and source CNTFET

After discovering the carbon nanotube (CNT) by Aijima, scientific research about this structure are expanded due to its excellent electronic properties. One of the important properties of this structure is quasi-ballistic transport with very high carrier mobility. Using carbon nanotube, two types of field effect transistors have been discussed. The first type is Schottky barrier carbon nanotube field effect transistor (SB-CNTFET) and second type is MOSFET-like CNTFETs (MOSCNTs). The MOSCNT was more favorable because of the high on-off current ratio, but leakage current (IL) of this transistor is very high because of electron band-to-band tunneling (BTBT). In order to deal with this problem, some solutions such as drain and source with a linearly or lightly doped, source and drain extensions and asymmetric oxide thickness, have been proposed. Also, the dual material gate structure and the source and drain parameters effect on the characteristics of CNTFET are investigated. Moreover, the p-type halo implanted deteriorate the cutoff frequency and the switching delay of CNTFET.

پس از کشف نانولوله های کربنی (CNT) ها توسط ایجیما، تحقیقات علمی در مورد این ساختار با توجه به خواص الکترونیکی بسیار عالی آن گسترش یافت. یکی از خواص مهم این ساختار انتقال شبه بالستیک با تحرک حامل بالا است. با استفاده از نانو لوله های کربنی، دو نوع ترانزیستور اثر میدانی تشریح شده است. نوع اول ترانزیستور اثر میدانی نانولوله کربنی سد شاتکی (SB-CNTFET) است و نوع دوم ترانزیستورهای نانو لوله کربنی مانند ماسفت (MOSCNT) ها هستند. MOSCNT ها به دلیل میزان جریان روشن-خاموش بالا مطلوب هستند اما جریان نشتی (IL) ترانزیستور به دلیل احتمال تونل زنی باند به باند (BTBT) خیلی بالاست. به منظور مقابله با این مشکل، برخی از راه حل ها از قبیل آلایش خطی یا سبک سورس و درین، گسترش سورس و درین و ضخامت اکسید نامتقارن پیشنهاد شده اند. همچنین ساختار گیت دوگانه و اثر پارامتر های سورس و درین روی مشخصه های CNTFET بررسی شده اند. علاوه بر این، هاله نوع P فرکانس قطع و تأخیر سوئیچینگ CNTFET را بدتر می کند.

 



خرید و دانلود ترجمه مقاله Investigation of the cutoff frequency of double linear halo lightly doped drain and source CNTFET


جزوه نانو الکترونیک - دکتر صدیق ضیابری (جزوه اول)

جزوه نانو الکترونیک - دکتر صدیق ضیابری (جزوه اول)

 فناوری نانو یا نانو تکنولوژی رشته‌ای از دانش کاربردی و فناوری است که شاخه های گسترده‌ای را پوشش می‌دهد. موضوع اصلی آن نیز مهار ماده یا دستگاه‌های در ابعاد کمتر از یک میکرومتر، معمولاً حدود ۱ تا ۱۰۰ نانو متر است. در واقع نانو تکنولوژی فهم و به کارگیری خواص جدیدی از مواد و سیستمهایی در این ابعاد است که اثرات فیزیکی جدیدی عمدتا متاثر از غلبه خواص کوانتومی بر خواص کلاسیک از خود نشان می‌دهند. نانوفناوری یک دانش به شدت میان‌رشته‌ای است و به رشته‌هایی چون پزشکی، دامپزشکی، زیست شناسی، فیزیک کاربردی، مهندسی مواد، ابزارهای نیم رسانا، شیمی ابرمولکول و حتی مهندسی مکانیک، مهندسی برق و مهندسی شیمی نیز مربوط می‌شود. نانو تکنولوژی می‌تواند به عنوان ادامهٔ دانش کنونی به ابعاد نانو یا طرح‌ریزی دانش کنونی بر پایه‌هایی جدیدتر و امروزی‌تر باشد. می‌توان موردهای زیر را شاخه‌های بنیادین دانش نانوفناوری دانست: نانو روکش ها‌نانو موادنانو پودرهانانو لوله ها (نانو تیوب‌ها)نانو کامپوزیت‌هامهندسی مولکولیموتورهای مولکولی(نانو ماشین‌ها)نانو الکترونیکنانو سیم‌هاDNA نانوسیم هانانو حسگرهانانو ترانزیستورها این جزوه شامل بخش های زیر می باشد: مروری بر مکانیک کوانتومیرابطه انرژی و طول موجخاصیت دوگانگی موج - ذره الکترون در فضای آزادخاصیت موج - ذرهابزار های اندازه گیری در کوانتوممعادله شرودینگرمعادله شرودینگر مستقل از زمانمعادله شرودینگر وابسته به زماناندازه حرکت الکترونتابع موجچاه بی نهایتحل معادله شرودینگر به روش تفاضل متناهیبدست آوردن جریان از تابع موجچاه محدودبررسی رفتار الکترونبررسی رفتار الکترون وقتی مقید نیستتونل زنی دیود تونلیبررسی ساختار بالک (BULK)، چاه کوانتومی (Quantum Well)، سیم (Wire) و نقطه (Dot)نانو لوله کربنی و نانوسیم نیمه هادیمهندسی کرنش (Strain Engineering)ادوات نانو الکترونیکانواع ترانزیستور های اثرمیدانی نانوسیم نیمه هادیترانزیستورهای اثر میدان نانوسیم نیمه هادی ناهمگون (هسته - پوشش)ساختار نوار انرژی نانوسیمنانوسیم سیلیکونی Si-NWترانزیستور اثرمیدانی نانولوله کربنیشبیه سازیشبیه سازی ترانزیستور اثر میدانی نانوسیم نیمه هادی (نانولوله کربنی) بر اساس مدل بالستیکمدل CNTFETفلوچارت روش Self Consistentبدست آوردن شیب زیر آستانه، SS، منحنی جریان ولتاژ، منحنی Ion/Ioff، نسبت SSبه d و...بررسی مدلسازی اثر دمای محیط بر NWFETبررسی مقاله Investigation of the cutoff frequency of double linear halo lightly doped drain and source CNTFET  

خرید و دانلود جزوه نانو الکترونیک - دکتر صدیق ضیابری (جزوه اول)